报告日期：
2023-09-12
报告页数：61页
报告简介：
中航科技电子团队2023年9月8日中航证券研究所发布证券研究报告请务必阅读正文后的免责条款部分行业评级：增持光刻机深度：筚路蓝缕，寻光刻星火股市有风险入市需谨慎分析师：刘牧野证券执业证书号：S0640522040001研究助理：刘一楠证券执业证书号：S0640122080006核心观点光刻为IC制造核心工艺，光刻技术的演进成就了摩尔定律。光刻工艺占IC制造1/2的时间1/3的成本，在瑞利公式：=1/的指导下，人类在缩短波长，增大数值孔径NA，降低工艺因子1三个方面展开探索，目前已实现13.5nm波长与达物理极限的1，正在向0.55NAEUV迈步。为了实现进一步制程微缩，业界多采用多重曝光工艺，但对光刻机的套刻精度、图形畸变、稳定性有更高的要求。10nm及以下时，ArFi多重曝光的复杂度急剧上升，经济性下降，EUV的出现使摩尔定律得以延续。光刻机由三大核心系统，数万个零件组成，是产业链各环节顶尖公司通力合作的成果。1）光源方面，DUV采用准分子激光器，技术掌握在Cymer和Gigaphoton手中，国内科益虹源打破垄断；EUV光源是通过高功率CO2激光器轰击Sn滴而来，高功率激光器为核心组件。2）光学系统是光刻机分辨率成像的保证，由照明系统和物镜系统构成，照明系统优化成像过程，实现分辨率增强；投影物镜系统将掩模图形聚焦成像，ZEISS为ASML关键光学元件独供商，国内技术水平仍有较大差距。3）双工件台系统有效提高了光刻精度与效率，国内华卓精科和清华大学团队走在前列。光刻重要性愈显，国内亟待01的突破。半导体行业十年翻倍，晶圆厂积极扩产，叠加芯片性能升级，光刻强度上升，预计5nm逻辑芯片的光刻支出占比达35%，光刻工艺的重要性愈发凸显，市场规模快速增长，预计2024年有望达230亿美元，ASML在高端市场一枝独秀。2022年中国大陆光刻机进口约40亿美元，主要从日本、荷兰进口，出口管制下光刻机存在断供隐忧，自主可控势在必行。依托举国之力，汇聚各科研院之所长，目前已有阶段性成果陆续落地。光刻机产业化渐近，零部件投资先行，我们测算国内零部件市场空间约150亿元，市场空间大、技术关键性强。建议关注：1）光刻机零部件：福晶科技、奥普光电、茂莱光学、福光股份、炬光科技、腾景科技、苏大维格、华卓精科（未上市）等；2）光刻机周边配套：美埃科技、蓝英装备、芯源微、微导纳米等；3）光刻机相关材料：华懋科技、彤程新材、清溢光电、龙图光罩（未上市）等。风险提示：国产光刻机研发及落地不及预期；需求疲软，晶圆厂扩产不及预期；竞争加剧的风险；出口管制进一步加剧的风险。bUqRvMyRsRfY6MbP8OsQmMtRmPiNrRuNlOmNmN9PoOuNNZrMnOMYmQzQ全文思路光刻机行业深度：筚路蓝缕，寻光刻星火一、光刻技术演进1.1光刻为芯片制造的核心工艺，光刻机乃人类智慧的集大成者1.2瑞利公式指导，、NA、1不断演进1.3多重曝光辅助实现制程微缩1.4全球光刻机发展史二、光刻机构成2.1光刻机结构总览2.2光源系统：从汞灯到准分子激光器到EUV光源2.3光学系统：高分辨率成像的保证2.3.1照明系统：优化成像过程，实现分辨率增强2.3.2物镜系统：光刻机内的超精密光学之最2.4双工件台：精密运动，增质提效三、光刻产业趋势3.1产业大势：下游需求旺盛，芯片性能升级，光刻强度上升3.2他山之石：深度绑定上下游，打造ASML生态圈3.3国内现状：谋国产宏图，众院所齐发力，曙光初现四、建议关注4.1光刻机零部件技术关键性强、市场空间大、国产替代有望提速4.2产业链标的梳理五、风险提示5.1风险提示国内光刻机产业链部分上市标的梳理资料来源：各公司公告，ifind，中航证券研究所（取2023年9月6日收盘价）代码公司名称产业链供应情况所属系统光刻机领域亮点当前市值（亿元）23年PE（一致）24年PE（一致）002222.SZ福晶科技（有望提供）精密光学元件、晶体光学系统中科院福建物构所控股，曾间接供应ASML。子公司“至期光子”聚焦纳米精度的超精密光学元件制造及复杂光机组件的研发131.35545002338.SZ奥普光电（有望提供）光栅编码器双工件台系统中科院长光所控股，国内高端光栅编码器龙头，布局超精尺，理论上可用于光刻机87.84331688502.SH茂莱光学DUV光学透镜光学系统公司研发的DUV光学透镜已应用于SMEE国产光刻机中，公司半导体检测设备光学模组供货KLA114.8178134688010.SH福光股份（有望提供）高精密光学镜头光学系统公司是国内航天级光学镜头的重要供应商，募投项目布局超精密光学加工，有望为光刻机等领域提供高精密光学镜头及光学系统115.87554688376.SH美埃科技洁净室关键设备周边配套为SMEE开发28n…
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